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Gigaphoton推出加工装置用KrF激光器G200K

发布日期:2021-11-19 17:00浏览次数:
本文摘要:近日,半导体光刻光源的主要生产厂商Gigaphoton株式会社宣告,自2019年2月开始出产仅次于输入级200W加工装置用KrF激光器G200K。2016年,Gigaphoton宣告其利用自身长期以来在半导体光刻领域累积的技术实力顺利研发出有了可靠性较高的准分子激光器“GIGANEX”系列产品,第一代产品发布了面向FPD生产热处理工序的KrF激光器GT600K。此次公布的加工装置用KrF激光器GT200K是该系列第二代产品。

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近日,半导体光刻光源的主要生产厂商Gigaphoton株式会社宣告,自2019年2月开始出产仅次于输入级200W加工装置用KrF激光器G200K。2016年,Gigaphoton宣告其利用自身长期以来在半导体光刻领域累积的技术实力顺利研发出有了可靠性较高的准分子激光器“GIGANEX”系列产品,第一代产品发布了面向FPD生产热处理工序的KrF激光器GT600K。此次公布的加工装置用KrF激光器GT200K是该系列第二代产品。

G200K仅次于输出功率约200W,使用Gigaphoton的激光性能平稳技术和模块寿命缩短技术构建高可靠性,未来将会沦为符合客户市场需求的加工装置用激光器。Gigaphoton的董事长兼任总经理浦中克己回应:“公司的‘GIGANEX’秉承将在半导体光刻用准分子激光器领域长年累积的技术应用于到其他领域的理念研制而出,已构成系列化产品。

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此次发售第二代产品G200K,不断扩大了产品阵容。公司今后将之后获取‘GIGANEX’的解决方案,为产业界作出普遍贡献。


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